24/7 真空製程產線－廠外中央排氣整合系統

連續真空穩定控制

本系統應用於單晶矽拉晶製程之真空幫浦排氣。拉晶（CZ Crystal Pulling）需長時間維持穩定真空與熱場平衡，幫浦持續運轉並排出高溫氣體與微量製程副產物。若排氣背壓不穩定，將直接影響爐內壓力與晶體品質。此類製程特性包含24小時連續運轉、低背壓需求、大管徑匯流與穩定風量控制。排氣系統不僅是附屬設備，而是影響製程穩定性的關鍵基礎設施。

中央集中排氣架構

在半導體擴散與CVD製程中，多台真空幫浦常同時運轉。若各自排氣，容易造成壓力干擾與管理複雜。本案採多支管路匯流至不鏽鋼主幹管，再集中至廠外中央離心風機。集中式設計可統一控制背壓條件，降低單機異常對整體產線的影響。主幹管徑與流速經計算優化，確保壓損可控，同時保留擴充彈性。

風機選型精準匹配

光電鍍膜與真空蒸鍍製程對壓力波動極為敏感，排氣背壓若偏離設計範圍，將影響膜層品質與沉積均勻度。本系統採高效率離心式風機，設計階段即進行壓損與運轉點模擬，確保在滿載與部分負載工況下皆維持穩定負壓。風機曲線與實際操作點匹配，避免偏離最佳效率區，兼顧穩定與能耗控制。

結構隔振與樓板保護

精密材料處理設備對震動極為敏感，結構傳導可能影響量測精度或製程穩定。本案風機配置彈簧式防震基座並進行高精度動平衡校正，以降低振動傳遞。管路設置柔性接頭吸收位移，避免剛性共振。風機佈局於廠外獨立基座，有效降低樓板受力與振動影響。

高可靠度運行架構

拉晶、CVD與鍍膜等真空製程多為全年無休運轉。排氣系統若中斷，將直接造成產線停機。本系統選用連續運轉等級電機與軸承，並設置運轉監測點以利預防性維護。集中式排氣架構有助於統一管理與故障排除，提高整體系統可靠度。

高效率粉塵分離控制

本案中央排氣架構可整合乾式濾筒、PT濾材或H13高效濾網作為二次過濾段，確保粉塵在進入風機前已被有效截留，降低葉輪磨耗與後端排放風險。對於矽料反應器殘渣排放與爐後冷卻段排氣等高濃度粉塵工況，則可採用冗餘設計或雙機併聯系統，確保在三班制連續運轉條件下仍維持穩定排氣能力。